中国60年代就开始过研发光刻机

中国60年代就开始过研发光刻机木木木林森 2020-05-21 10:13:42

早在中国60年代就开始研发过芯片光刻机研究，比美国稍晚，跟当时日本差不多同时起步，比当时的韩国，台湾要早十几年，60年代中国科学院就研制出了第一台接触式光刻机……

70年代中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺，清华大学研制第四代分步式投影光刻机，并在1980年就获得成功光刻精度达到了3微米，接近世界先进水平，那时候的ASML还没诞生呢……

可惜的是不知道是什么原因，中国在1980年代放弃电子工业，导致20年技术积累，全部付诸东流。

（可能听信了当时国内伪专家的谗言什么所谓的科技无国界）想着买现成的产品省钱省力，也有可能是当时中美刚刚建交美国下的套，诱骗中国放弃自己研发，买美国现成的产品，导致了今天中国芯的受制于人……希望中国芯片研发早日有所突破“爹有娘有不如自己有”不再核心技术受制于人！

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19 条评论

评论

• 黑砲 9小时前
  

  锋芒内敛，那时候是对的，防不胜防才能出奇制胜，所有的忍耐都是为了今天

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• 消田 12小时前
  

  加油吧中国蕊

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• 手机用户76182430848 12小时前
  

  莫有后悔药，只有奋起直追。

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• 冰峰和韵 12小时前
  

  可惜没有坚持下来

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• 用户8497269236045 12小时前
  

  那个年代主要是市场无须求，生产出来没有企业采购，只能转行下马…

  
  
  

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楼上的真不讲道理！