很多人都知道，中芯国际之所以迟迟不能完成7nm芯片量产，很大一部分原因都是因为受限于荷兰ASML公司的顶级光刻机，那么究竟有没有办法绕过光刻机呢？
我国芯片制造处于尴尬境地首先我们要达成一个共识，那就是芯片在近现代科技中不可比拟的重要性，可以说正是芯片的水平决定了近现代科技产业的发展速度。
芯片可以运用到我们生活中的方方面面，无论是军工还是民用。谁掌握了芯片，谁就掌握了科技产业的最高话语权。
而在目前，美国毫无疑问是芯片行业最大的受益者，也因此美国是绝不会允许其他国家的半导体行业发展起来的。比如之前的德国、日本，只要在近几十年来有崛起的苗头，很快便会被打压下去。尤其是日本，即便关系向来不错，也遭遇了美国的无情打击。
现在美国打压华为， 很显然，美国正一步一步逼得我们必须走上芯片国产化的道路，包括芯片设计和制造都要掌握在自己手里。
芯片设计华为已经替我们完成了，但是芯片制造却仍有难题。台积电虽然拥有全球领先的代工技术，但是大股东却是美国公司，并且不日还要“赴美设厂"。
而我们最大的芯片代工厂中芯国际，却依然面临缺乏EUV极紫外光刻机，迟迟不能突破10nm以下制程的尴尬境地。
那么我们有没有办法绕过EUV极紫外光刻机呢？
预计年底实现“伪7nm”量产我们都知道，早在2018年中芯国际就已经向荷兰ASML公司订购了当前最顶级的EUV极紫外光刻机，并且支付了一笔定金。
但是迫于美国压力，以及《瓦森那协定》的限制，一直到今天，中芯国际都没有见到EUV极紫外光刻机的影子。
有网友询问，为何让俄罗斯公司出面买光刻机，然后再转卖给中芯国际呢？这个想法很好，可惜完全没有实现的可能。（之前俄罗斯专家倒是发声，支持荷兰ASML公司拿光刻机换中国口罩）
首先，俄罗斯也签署了《瓦森纳协定》，势必要遵守规则维护成员利益；其次俄罗斯半导体行业的发展方向不同，其水平可能还不如中国，根本用不到顶级光刻机。
好在的是，中芯国际也没有坐以待毙，而是想办法通过DUV光刻机自研了“N+1”，“N+2”代工艺。根据中芯国际总裁日前的透露，预计今年年底便能通过“N+1”代工艺实现“伪7nm”芯片的量产。
为什么这里要说“伪7nm”芯片呢？自然是因为其在性能和规格上和台积电规定的标准7nm芯片还有所差距，但是标准都是人定的。等以后中芯国际的技术上去了，自己也可以制定一个业内通用的芯片标准。
可不可以向俄罗斯学习？很多人很疑惑，我们这边为芯片制造发愁，为EUV极紫外光刻机吵翻了天，为什么俄罗斯没有反应？难道俄罗斯就不需要用到顶级光刻机吗？我们是不是可以向俄罗斯学习呢？
据悉，在2019年ASML总共卖出了26台极紫外线（EUV）光刻机，其中每台光刻机的售价都超过1亿美元，比一架波音飞机还要贵。
其中，有超过半数的光刻机都卖给了台积电（台积电大股东是美国银行）， 剩下的一半则卖给了美国的英特尔和韩国的三星，很明显，俄罗斯也没有收到EUV极紫外光刻机。
进一步了解我们才发现，原来自“冷战”之后，俄罗斯半导体行业就一蹶不振！
芯片用途主要可以分为两大类，一个是军工，一个是民用。而俄罗斯直接放弃了民用，其90%以上的民用芯片都源自于进口，而军工方面的芯片，根本用不到10nm以下的技术（这也是为什么俄罗斯军工都是大块头的原因之一）。
为什么说手机芯片比电脑芯片难？就是因为手机芯片更小，要在万分之几的头发丝那么大的地方上进行精细操作，没有极其高端的设备根本就不可能。（14纳米就相当于头发丝直径的一万分之一，7纳米相当于在指甲盖大小上塞进69亿个晶体管）
总结：简单来说，中芯国际目前的水平其实已经很不错了（全球芯片代工行业排名前5），虽然离台积电和三星还有差距，但是相比于其他国家来说已经非常先进了。
所以，中芯国际现在要做的不是像谁学习，也不是继续等ASML公司的顶级光刻机，而是抛弃幻想，尽快进行自我突破！
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